Kristal teknolojisi ile Thin-film teknolojisi arasındaki özet farklar :

Kristal teknolojisi, yari iletken - mikroelektronik endüstrisinden güneş enerjisi endüstrisine aktarılmış bir know-how ürünüdür. Silikon hammaddesinin bazı işlemlerden geçerek temelde entegre devrelerde kullanılan saflığa getirilmelerinden sonra bu malzemenin kristal formunda büyütülmesi ( Ingot ) ve levhalar halinde kesilerek ( Wafer ) oluşturulan bu yarı  iletken levhaya fosfor ve bor mineralleri enjekte edilerek (Cell ) elektriksel yük farklı yani p – n geçişli bir pil üretilmesidir. Bu teknikle üretilen hücreler %11 - %16 verimlilikte olup ( verim = birim alanda- hücreden alınabilinen elektrik güç ile üzerine düşen ışınım gücü arasındaki orandır ), çevre koşulları ile güneş ışığının malzemenin düşük degradasyon özeliği nedeniyle ömrünün çok az etkilenmeleri ile sektörün yaklaşık % 80 ine hakim bir teknolojidir. Bunun yanında üretim prosesinin pahalılığı, özellikle de kullanılan silikon hammaddenin ultra-saflığa getirilmesi işlemlerinin pahalılığı nedeniyle aşağıda açıklanan thin-film e göre ilk yatırımı  daha yüksektir.

Thin-Film (ince film) teknolojisi, hesap makinalarında kullanılan güneş pillerinin kullandığı teknolojidir. Güneş enerjisi sektöründe maliyet düşürme konusundaki uğraşlar neticesinde thin-film paneller MW mertebesinde uygulamalar yapılarak sektördeki pazar paylarını  artırmıştır. Burada temel fark silikonun kristal olarak büyütülmeden amorf halde bir taşıyıcı  yüzeye (genelde cam) fiziksel-kimyasal metodlarla püskürtülerek yapıştırılması, ardından da elektrik aktarımı için "junction" lar yapılıp panel haline getirilmesidir. Bu teknolojinin en büyük handikabı güneş ışığı altında bir süre sonra malzemenin elektrik üretim kapasitesinde düşüş yaşanması ve performans kaybıdır. Avantajı da daha az (yaklaşık 1/10) hammadde kullanılarak hammaddeden tasarruf edilmesi ve üretim tekniğinin daha büyük taşıyıcı  yüzeyler üzerine uygulanabilinmelerinden dolayı hacimli imalatlarda ekonomik avantaj sağlamasıdır.